AMSTERDÃ (Reuters) – A ASML atingiu a “primeira luz” em seu novo e enorme sistema de litografia EUV High-NA, confirmou o fabricante holandês de equipamentos para semicondutores nesta quarta-feira, um marco que significa que a ferramenta está funcionando, embora não esteja com desempenho total. AMSTERDÃ (Reuters) – A ASML atingiu a “primeira luz” em seu novo e enorme sistema de litografia EUV High-NA, confirmou o fabricante holandês de equipamentos para semicondutores nesta quarta-feira, um marco que significa que a ferramenta está funcionando, embora não esteja com desempenho total.
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